華烯環保分享|多晶硅出產過程中需要什么樣的廢氣處理設備:
在多晶硅的出產中,還會發生一定的廢氣和殘液,現在我們的廢氣處理設備現已比較先進,對曾經的處理技能進行了改進,現已達到了較高的水平。
多晶硅是太陽能和微電子工業的要害原材料,跟著我國太陽能工業的快速開展,多晶硅的需求量也與日俱增。現在,多晶硅工藝技能空前活潑。主要有西門子法、冶金法、等離子法、硅烷法、流化床法、熔鹽電解法、無氯工藝技能等。
西門子法是通過氣相堆積的方法出產柱狀多晶硅。為了提高質料使用率,在原基礎上選用閉環式出產工藝即改良西門子法。改良西門子工藝出產的多晶硅產能約占世界總產能的80%。
國內外對西門子法制備高純多晶硅的研討較多。如張玉等人選用催化化學氣相堆積法制備多晶硅薄膜;美國M.M.Dahl等人研討了多晶硅在流化床中的微觀結構和顆粒生長。此外,多晶硅的出產技能還有碳熱復原法、區域熔煉法等。碳熱復原法是使用高純碳復原二氧化硅制取多晶硅,區域熔煉法是使用金屬定向凝固原理將金屬級硅提純到、太陽能級硅的。
廢氣和殘液的處理:
在多晶硅制備中有大量的廢氣和廢液發生,國內多數單位一般先用水洗水解,然后通過NaOH中和廢氣處理和殘液處理工序。
廢氣凈化:
氯硅烷別離提純工序各精餾塔頂排放的含氯硅烷、氮氣的廢氣,及含氯硅烷、氫氣、氮氣、氯化氫的多晶硅復原爐置換吹掃氣和多晶硅復原爐事端排放氣等,被送進尾氣洗刷塔組,用水(鹽酸溶液)洗刷,廢氣中的氯硅烷與水發生以下反響而被除掉:
SiHCl3+2H2O=SiO2+3HCl+H2
SiCl4+2H2O=SiO2+4HCl
SiH2Cl2+2H2O=SiO2+2HCl+H2
出尾氣處理塔頂含有氮氣和氫氣的廢氣經液封罐放空,出尾氣處理塔塔底含有SiO2固體的鹽酸溶液用泵送入工藝廢料處理工序。